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第856章【新微半导体阶段性重大突破】(3 / 4)

高能激光,照射高速下的锡滴,从而产生波长极短的光源,然后照光掩模里预制的芯片图片投射在光刻胶上,就能像冲洗照片一样印刷出线路图。”

“关键点就在这个复杂的光源上,不就是想要高能光源么?因为波粒二象性的物理性质,可以用加速器来加速粒子,粒子跑得足够快,无限接近光速,因为波粒二象性,粒子也可以是一种波,光也是一种波,那么什么波长的光不能有?”

“所以,过滤掉粒子,只要用光,不管是什么纳米制程,多跑几圈的事情,真是简单粗暴、量大管饱,用分光器,一台粒子加速器可以带动几十台光刻机,甚至几百台光刻机都不在话下,这真的是天才一般的思路。”

听到这话的彼得·伯纳德当场傻了,满脸惊愕地说道:“你说什么?一台粒子加速器甚至可以带动几百台光刻机?”

这……

如此恐怖的产能,那以后产出来的芯片不得白菜价,高端芯片扔地上狗都不会多看一眼的那种。

彼得·伯纳德连忙说道:“不不不,你给我说清楚一点,重头说,仔细说。”

闻言,那位技术人员重新捋了一捋,然后才说道:“他们的这一方案是逆asml光刻机小型化的思路,就是直接建设一个超大功率的光源总站,通过高能加速光源环形光道,光道上可以分布几十个、上百个乃至更多的激光输出口。”

“输出口输出的高能激光,能加工多少纳米制程的芯片,例如a输出口65纳米就对应建设65纳米制程的光刻机,b输出口是20纳米就对应建设20纳米制程的光刻机,以这个光源总站形成一个超级庞大的芯片生产工业基地。”

“所以他根本就不需要刻意去制造多大制程的光源,从光源总站高能加速打出来就行了,需要什么制程就对应输出口进行建造,不需要的可以直接无视。”

“我公司因为不需要也不能再

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