把dapcvd法的相关文献看完后，陈舟右手滑动鼠标，点开了一个新的pdf文件。
最后一个制备方法。
微波等离子体cvd法，也就是mpcvd法。
是四十三所所采用的的方法。
也是陈舟查这么文献的目的。
和dapcvd法被报道的时间，仅相隔一年。
这也是目前用于沉积金刚石薄膜最为广泛的方法。
这种方法最先是通过一种轴向的天线耦合器，将2~5w的矩形微波进行导转换，在大气压下形成等离子体。
而高压等离子体就会由耦合器的“针孔”处喷射到水冷的样品台上，继而形成金刚石薄膜。
和dapcvd法使用的气源相同，主要是氩气，反应气体是甲烷和氢气。
现如今，这种方法已经形成了多种形式。
不过不管是按真空室的形成来分的石英管式、石英钟罩式和带有微波窗的金属腔体式，还是按微波与等离子体的耦合方式来分的表面波耦合式、直接耦合式和天线耦合式。
它们的沉积速率，都是和微波功率有关的。
举个例子，用5kw微波功率的mpcvd法，可以以10μm/h的速率沉积工具级金刚石薄膜，以8μm/h的速率沉积热沉级金刚石薄膜，以3μm/h 的速率沉积光学级金刚石薄膜。
而用10kw微波功率的时候，他的沉积速率可以达到25μm/h。
也就是说，通过增大微波功率，可以提高金刚石薄膜的沉积速率。
除此之外，金刚石薄膜的沉积速率还和气体压力有关。
在高微波功率，高的甲烷与氢气体积流量比，160torr气体压力下，可以制备出150μm/h的多晶金刚石薄膜。
如果在同等条件下，将压力提高
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