之后的几天,许秋又做了两批器件,一批是重复pen基片的,另一批是在同样实验条件下玻璃基片的。
ptb7-th体系中,pen基片的最高效率提高了一点点,达到了8.20%。
而玻璃基片下的标准样品,最高效率可达10.26%。
这个数值,相比于他之前在模拟实验室中得到的10.68%,稍差一些,可能是器件结构不同造成的。
pen基片不能高温热退火,所以用的是pedot:pss传输层的正常结构,而之前使用的是氧化锌传输层的倒置结构。
此外,虽然重点在于ptb7-th体系,但是许秋也做了p3ht体系。
主要是为了让文章数据更加丰满一些,同时也说明这种柔性衬底的加工方式具有普适性。
再之后,许秋完成了各种表征测试,包括光吸收光谱、荧光光谱、celiv测试等,还拍了一张用两只镊子弯曲pen基片器件的照片。
在实验进行的间隙,许秋也在同步以论文的形式,写项目的结题报告。
这个时候,他前期阅读了大量的文献的优势就体现出来了,再加上他还可以随时向学姐请教。
因此中文论文写起来压力并不大。
正文部分,许秋先将四组器件编号,pen基片的ptb7-th、p3ht体系,分别为1#、3#,玻璃基片对应的体系分别为2#、4#。
然后,主要就是比较玻璃和pen这两种基片的不同,对器件性能的影响,并分析其可能的原因。
像是光学性能,光吸收光谱和荧光光谱都是直接测有效层薄膜的,数据对两种基片的器件都是一样的。
所以不需要比较,直接将得到的图片信息转化为文字就可以了。
比如:1#、2#有效层共混薄膜的主要光吸收范围在550
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