束波长。一直以来,业界都是以空气为媒介,也就是使用“干式微影”技术。
但现在这个技术已经撞墙,在157纳米被卡住了。
而我们的研发员林本坚却提出一个构想,他要放弃157纳米制程的研发,退回到193纳米,改用水做为介质,全力研发“湿式微影”技术。
现在我们就面临方向选择的问题。林本坚这个想法提出之后,上游设备供应商都怒气冲天。因为那几个设备商,尼康、佳能、asml,已经投入十亿美元的研发费用,耗时数年,研发新一代干式微影光刻机
。
如果太积电突然改成‘湿式微影’技术,那他们这光刻机研发出来也没用了,十亿美元、数年的努力都打了水漂,我们不可能买他的光刻机。
相反,如果我们采用湿式微影技术,必须让光刻机企业跟随研发生产湿式微影光刻机,否则技术突破了,却没有光刻机蚀刻,也无法生产。
矛盾就在这里。
他们不愿意前功尽弃,要求我们放弃‘湿式微影’的研发,继续从‘干式微影’上突破。
所以现在我们的压力很大,如果让他们一齐跟我们转向,研发失败还得回头重新回到干式,不但我们损失巨大,给他们也造成巨大伤害。
董事长认为这个矛盾该怎么解决?这个方向是否正确呢?”
姜尚义问完,众人除了宫浩,都充满期待的看着萧山。
萧山毫不犹豫地说:“我不知道方向是否正确,但我知道该怎么做。”
他心中暗笑,湿式微影当然是正确的方向,这前世早已经证明,而且是划时代的变革,可以说芯片制程的里程碑。
即便没有他的推动,明年也会攻破这个难题,让太积电一举跨越六七代,直接攻克130纳米的堡垒,成为世界最领先的芯片制造代工企业,把二星远远甩在后面。
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