人总是很聪明的，最终就有人想出了一种方法：利用紫外线腐蚀。
第一步就是将制作芯片的材料晶圆进行打磨之后，再上面铺上一层特殊的材料，然后在这层材料上面蒙上一层栅栏，这些栅栏的形状就是一个个小格子，每一个格子就相当于芯片中的一个开关。
将这些工作做完之后，再使用紫外线进行对那一层材料进行腐蚀，特殊的材料腐蚀掉了之后，晶圆上方露出的部分就成了一个个的小开关了。
晶圆，光栅，这些东西相对来说还是比较好弄的。
其中最难以掌控的东西就是光！
这种光腐蚀技术如今也只有少数几个尖端国家能够掌握，比如日2本的佳能尼康，意大利的飞利浦，还有美国。即便是美国的inter使用的光刻机也是找日本的尼康购买的。
经过这些年的发展，华夏也在这方面取得了长足的进步，一套光刻机可是非常的复杂，里面有数百个镜片形成一个有机的整体，每一点数据出错，就会大大影响光刻机的性能，可以想象光学研究在光刻机上面的重要性，这涉及到整条产业链的整体水平。
如今国内的光刻机已经能够在世界范围的低端市场占据一席之地了，但是相比国外那些精度达到22nm的光刻机，差距还是非常显著的，其中最关键的因素就是在光学领域的研究远远赶不上国外。
例如尼康和佳能，两者因为在光学镜片上的长项，就将其他的国家远远甩在了后面。
陶志远也是有苦难言，说道：“现在咱们这行业碰到的麻烦挺大，在镜片上面的许多数据都弄不到，国家虽然大力发展，但那时要求出成果的，到时候弄不出来大家都要弄一个满脸灰！”
前年的时候，中科院的光学院就已经展开研究，希望研制出下一代光刻机，要求刻录精度达到30nm级别，30nm级别到现在为止就只有极少数公司拥有，想要自
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